Erzielen Sie überlegene Beschichtungsresultate mit unseren Generatoren für Hochleistungs-Impuls-Magnetron-Sputtern (HIPIMS).
| Eigenschaft | Nutzen | |
|---|---|---|
| Leistungsspitzen bis zu 8 Megawatt | Unübertroffene Flexibilität für Forschungs- und Industrieprozesse | |
| Aktive Arc-Unterdrückung | Tropfenfreies Sputtern und minimale Oberflächendefekte | |
| Einstellbare Pulsdauer und -frequenz | Leicht anpassbar an bestehende Kathodensysteme und Prozessbedingungen | |
| Pulsregelung und -überwachung in Echtzeit | Effektive Nutzung der Kathoden | |
| Variante mit Rückanschlüssen verfügbar | Optimale Geräteeinbindung | |
Die DC-Generatoren der TruPlasma Highpulse Serie 4000 sind die erste Wahl für HIPIMS-Anwendungen. Als neueste Entwicklung gepulster PVD-Sputterverfahren liefert HIPIMS besonders korrosionsbeständige und verschleißfeste Hartstoffbeschichtungen.
Leistungsspitzen bis zu 8 Megawatt erzeugen extreme Plasmadichten mit hohen Ionenflüssen. Prinzipiell vergleichbar mit einer Arc-Entladung, entstehen bei der HIPIMS-Technik allerdings keine Materialtröpfchen (droplets). In Kombination mit polarisierten Substraten kann TruPlasma Highpulse Serie 4000 auch Halbleiterapplikationen bedienen, z.B. Ätzen, Vorbehandlung von Oberflächen und Trench-Filling.
